Подвинься, ASML: Китай представил ключевой элемент для EUV-литографии

Date:

На Международной промышленной выставке в Шанхае китайский стартап Langdao Silex представила собственный источник EUV-излучения.

Share post:

Subscribe

Популярное

Другие новости
Related

Партнеры Украины рассмотрят запрос Киева о 70 млрд долларов на оборону, – Макрон

Что сказал Макрон о помощи Украине? Президент Франции Эммануэль...

Дважды взорвались на минах во время эвакуации: полицейские спасли раненых собратьев в Харьковской области

На Купянском направлении группа полицейских взорвалась на взрывном устройстве....